在半导体的新闻中,总是会提到以尺寸标示的晶圆厂,如 8 寸或是 12 寸晶圆厂,然而,所谓的到底是什么东西?其中 8 寸指的是什么部分?要产出大尺寸的制造又有什么难度呢?以下将逐步介绍半导体最重要的基础——“”到底是什么。 何谓(wafer),是制造各式电脑芯片的基础。我们可以将芯片制造比拟成用乐高积木盖房子,藉由一层又一层的堆叠,完成自己期望的造型
半导体后道测试的主要作用监控产品质量,测工艺,以提高良率及产品质量。后道测试设备具体流程可分为设计验证、在线参数测试、硅片拣选测试、可靠性测试及终测。本期SPEA和大家简答介绍下CP测试和FT测试的相关流程。 检测环节:(CP Circuiq Probing )检测是指在完成后进行封装前,通过探针台和测试机的配合使用,对上的裸芯片进行功能和电参数测试。其步骤为:1、探针台
芯片的生产制造以客户为中心,下图是芯片生产制造简化流程。今天,我来介绍一下芯片行业中几个关键的术语:wafer,die,cell的概念与区别。wafer:就是大家说的的成分是硅,硅是由石英砂提炼出来的,将其春花制成硅棒,将其切片就是芯片制作需要的,目前业界所谓的6英寸,12英寸,18英寸其实就是直径的简称,只不过这个寸是估算值,实际上的直径是分为150mm,300mm以
关于测试探针台所生成的Map转换器使用说明可适用探针台分类软件说明软件界面介绍软件(部分)界面预览软件常用设置及使用教程 可适用探针台分类TSK(90A/UF200/UF3000) TEL(P8/P8XL/P12) PT301/M软件说明软件名称-->MapToolKit.exe 其他附件-->TELMapDLL.dll 其他附件-->TSKMapDLL.dll 其他附件--
背景:表面缺陷检测设备主要检测外观呈现出来的缺陷,损伤、毛刺等缺陷,主要设备供应商KLA,AMAT,日立等,其中KLA在表面检测设备占有市场52%左右。缺陷检测设备是提高良率最核心的设备。在正面已有电路结构时,正面缺陷检测就需要用到有图案缺陷检测设备了,而背面、边缘的检测仍使用无图案缺陷检测设备。有图案缺陷检测分为明场和暗场两种,明场用宽波段的等离子体光源,暗场用单一波长的激光,两
什么是 CPU ?CPU 是由高纯度硅制成的一个大而平的圆形薄片,就像一个薄薄的比萨饼底。硅很特别,因为它可以像微小的开关
原创 3月前
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无源振电路设计可参考如图1所示的皮尔斯振荡器电路模型,设计人员只需给振Q配置合适的外围电路,即两个外部负载电容CL1、CL2和一个外部限流电阻RExt,振就能正常工作了。CS为杂散电容,存在板级之间。图1:振外围电路设计图下面笔者结合智能采集终端项目,针对EPSON公司两款无源振测试结果做分析,谈一谈如何正确地设计无源振硬件电路。CPU主12M时钟选用Epson公司的12MHz无源
代工解决方案 中芯国际是一家纯代工厂,向全球客户提供0.35微米到14纳米8寸和12寸芯片代工与技术服务。中芯国际除高端的制造能力之外,还为客户提供全方位的代工解决方案,包括光罩制造、IP研发及后段辅助设计服务等一站式服务(包含凸块加工服务、探测,以及最终的封装、测试等)。全面一体的
转载 2021-05-13 06:05:00
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亦称为点阵图像或栅格图像,是由称作像素(图片元素)的单个点组成的。这些点可以进行不同的排列和染色以构成图样。当放大位图时,可以看见赖以构成整个图像的无数单个方块。扩大位图尺寸的效果是增大单个像素,从而使线条和形状显得参差不齐。然而,如果从稍远的位置观看它,位图图像的颜色和形状又显得是连续的。由于每一个像素都是单独染色的,您可以通过以每次一个像素的频率操作选择区域而产生近似相片的逼真效果,诸如加深阴
原创 6月前
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# 制造与ARM架构的结合 在现代信息技术的快速发展中,制造和ARM架构已经成为推动电子设备革新和发展的关键因素。本文将会深入探讨这两者之间的关系,并给出一些简单的代码示例,帮助大家更好地理解其中的原理。 ## 一、制造基础 制造是半导体产业的重要环节,其过程包括多个步骤,如光刻、刻蚀、离子注入和化学气相沉积等。这些步骤的最终目标是将电子电路集成到一个硅基片上,形成功能强大的
原创 2024-09-19 04:43:50
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一、CPU与核的概念1、半导体中名词【Wafer】【Chip】【Die】中文名字和用途Wafer—— wafer 即为图片所示的,由纯硅(Si)构成。一般分为6英寸、8英寸、12英寸规格不等,晶片就是基于这个wafer上生产出来的。是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品。Die——
我也是门外汉,这里写出来只是为了以一种易于理解的方式交流共勉,不足之处指正批评 是一个圆形的硅片,是制造集成电路(IC)的基础材料。硅片的直径通常在150毫米到300毫米之间。在上,通过光刻和蚀刻等工艺,在其表面生成多个集成电路。 die就是在上蚀刻的出基本电路后将其切割成方形后的半成
原创 2024-07-06 21:23:01
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原创 2021-09-06 10:54:00
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FinFET与2nm工艺壁垒 谈到半导体工艺尺寸的时候,通常对于下面的一串数字耳熟能详:3um、2um、1.5um、1um、0.8um、0.5um、0.35um、0.25um、0.18um、0.13um、90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm、10nm...有人说5nm是半导 ...
转载 2021-05-19 06:18:00
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STDF(Standard Test Data File),即标准测试数据文件,是半导体行业芯片测试数据的存储规范,1985年由Teradyne公司发布,到目前为止已经经过了30多年的发展,已非常成熟。最新版是2007年发布的第四版本。发现github上已经有人写过完整的STDF读取库了,拿来稍微改改就能直接用。https://github.com/guyanqiu/STDF-Reader 整个项
原创 9月前
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面型参数厚度、TTV、BOW、Warp、表面粗糙度、膜厚、等是芯片制造工艺必须考虑的几何形貌参数。其中TTV、BOW、Warp三个参数反映了半导体的平面度和厚度均匀性,对于芯片制造过程中的多个关键工艺质量有直接影响。 TTV、BOW、WARP对制造工艺的影响 对化学机械抛光工艺的影响:抛光不均匀,可能会导致CMP过程中的不均匀抛光,从而造成表面粗糙和残留应力。 对薄膜沉积工艺的影
原创 2024-06-03 16:06:48
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目的: 1.ArcGIS API for Flex实现在Flex程序中浏览自己的ArcGIS.Server.9.3中发布的地图,一个最基本的入门例子。准备工作:1.在ArcGIS.Server.9.3发布一个叫usa的Map Service,并且把这个Service启动起来。 2.安装Flex Builder3。 3.下载ArcGIS API for Flex library的开发包arcgis_
在英特尔宣布进入ARM芯片代工市场,并为展讯代工了14nm八核X86架构的64位LTE芯片平台SC9861G-IA后,另一IDM模式巨头三星于日前宣布将成立一个独立的代工或合同芯片制造业务部门,强化代工业务。排名全球前两位的半导体厂商对代工市场表现出了浓厚的兴趣,那么台积电、格罗方德、联电及中芯国际等纯代工市场上的四强又在做什么呢?台积电在代工领域,台积电是当之无愧的老大,也是英特尔和
级倒装装备的运控系统主要由工控机、运动控制馈装置采用的是海德汉的增量式光栅尺,光栅尺的定位精度,决定了整个系统的精度,光栅尺的扫描频率决定了直线电机运动的理论最大速度,其
原创 2022-12-10 00:36:37
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在半导体晶片生产工厂中,每天都会有大量的芯片在生产、传输,通过RFID技术,可以对盒进行识别、智能管理,确定晶片在生产过程中的工艺流程、生产进度等,实时跟踪与优化生产过程中的每一步,确保晶片在生产过程中保持优秀的品质。在晶片的制造过程中,硅晶片会放在FOUP盒中,每个盒都会承载着相应数量的硅晶片。而TI标签(即RFID标签)则嵌入到盒中,记录着硅晶片的尺寸、数量等重要信息。TI标签
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