知识星球里的学员问：镀膜后的均匀性是要测几个点？测哪些位置？有具体的规定吗？
均匀性是什么？
均匀性（Uniformity）是评价半导体制造中某一参数特性在晶圆表面上的一致性程度的重要指标，如薄膜厚度，刻蚀深度等。较好的均匀性意味着晶圆表面的变化较小，更少的芯片性能差异。
均匀性测试用在哪些工序？
薄膜沉积，掺杂，刻蚀，光刻，cmp等都会用到。
测量均匀性测几个点？
如上图，在晶圆厂中一般有三种方案：
5点测量: 这种方法在晶圆的中心和四个边缘位置进行测量。
9点测量: 比5点测量更精细，在晶圆的中心、四个边缘和四个中间位置进行测量。
49点测量: 在晶圆的49个点进行测量，通常分布在整个晶圆表面。49点测量提供了更高的分辨率，是评估均匀性更为标准的方法。
怎么使用这三种方法？
在晶圆厂对制程评估最普遍的定义就是49点量测及标准差3σ。详见文章：
而5点和9点量测最常被使用在制程监控和控制上。
