上期的文章中我们介绍了PMMA,见文章:
本期,我们对PMMA的优缺点做一个探讨。
PMMA的优点与缺点?
优点
1,极高分辨率,能够实现亚10纳米的分辨率。其分子链容易被电子束分解。
2,成本较低:PMMA的生产成本远远低于UV光刻胶
3,适用于剥离工艺,PMMA易于溶解在特定溶剂中,因此常用于金属剥离工艺,能在电子束光刻后轻松去除掉,用于图形转移。
缺点
1,抗等离子体刻蚀能力差,不如大部分的UV系列光刻胶,尤其在干法刻蚀中与SiO2的选择比仅约为1:1。
2,热稳定性较低,在较高温度下容易软化或分解。
为什么PMMA的抗等离子体刻蚀能力比光刻胶差?
这个需要从二者的结构入手。
PMMA的分子链是直链,缺乏耐蚀性较强的环状结构或芳香族基团,等离子体刻蚀中常用的氧气、氟化气体等容易与PMMA的C-H和C-O键发生反应,使其分子链断裂,导致材料快速被去除。
而光刻胶的主体树脂是一般是含有苯环等结构的高分子材料,化学稳定性更强。
见文章: